Эллипсометры предназначены для многочисленных задач метрологии тонких пленок, таких как измерение толщин тонких пленок (однослойных и многослойных пленочных стеков), индекса преломления, коэффициента затухания, отражения, пропускания, измерение шероховатости (при применении меппинга),  метрологии тонких пленок и пленочных структур (измерение толщины пленок от 1 нм  до десятков и даже сотен мкм, оптических характеристик) с помощью лазерных эллипсометров (длина волны 632,8 нм), спектроскопических UV-VIS, UV-VIS-NIR эллипсометров (190 нм - 2500 нм.), ИК-фурье эллипсометров (1666 нм - 25000 нм.) и рефлектометров (240 - 950 нм.).